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ALD原子层沉积系统竞价公告-CB105902024000489
发布日期:2024年05月10日 | 标签:
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公告摘要

    ***********招标公司受业主*******委托,于2024年05月10日在招标网发布ALD原子层沉积系统竞价公告-CB105902024000489。
    各有关单位请于2024.05.17前与公告中联系人联系,及时参与投标等相关工作,以免错失商业机会。

    部分信息内容如下:(查看详细信息请登录
基本信息: 发布时间:****-**-** **:**:** 截止时间:****-**-** **:**:** 申购单号:***************** 申购主题:ALD原子层沉积系统 采购单位:**** 报价要求:国产含税 发票类型:增值税专用发票 币种:人民币 预算: 付款方式:货到验收合格后付款 备注说明: 签约时间:发布竞价结果后*天内签约合同 送货时间:合同签订后*天内送达 安装要求:免费上门安装(含材料费) 收货地址:**省/***/***/ 申购明细: 采购内容 数量 单位 预算单价 品牌 型号 规格参数 质保及售后服务 ALD原子层沉积系统 * 套 ****** 普迪真空 ALD-T***Q *、真空腔室:**** 铝阳极氧化处理,腔室内尺寸Φ***×** mm; *、真空系统:双极旋片油泵,抽速度不小于 ** m*/h;气动真空阀门+耐污染薄膜真空计; *、极限真空:系统极限优*×**-*Torr,系统真空漏率小于 ****-** Pa.m*/s; *、样品台尺寸:* 英寸样品托,兼容 * inch 及以下样品尺寸; *、样品台温度:*英寸内样品表面加热温度最高可达***℃,温度控制精度±*.*℃; *、前驱体路数:*路可加热至***℃的金属驱体源和*路水以及臭氧前驱体源; *、吹扫管道:*路质量流量计控制前驱体源吹扫管道,分别吹扫金属前驱体源和水前驱体源管道; *、生长模式:连续和停留沉积模式选择; *、控制系统:PLC+工控机+触摸屏人机交互界面; **、电源功率:**-**Hz,***VAC /**A交流电源; **、沉积非均匀性:在*inch硅片上,沉积***ycle氧化铝非均匀性<±*%; **、仪器尺寸:***mm x *** mm x **** mm(长*宽*高); **、可沉积材料种类:SiO*、TiO*、SnO、FeO、CoO、NiO、Al*O*、ZnO、HfO*、ZrO*、MgO等 按行业标准提供服务 报价地址:https://www.easyjcx.com/#/index

为保证您能够顺利投标,请在投标或购买招标文件前向招标代理机构或招标人咨询投标详细要求,有关招标的具体要求及情况以招标代理机构或招标人的解释为准。

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