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化合物半导体微纳结构工艺加工(清采比选20240170号)采购公告
发布日期:2024年05月11日 | 标签:
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公告摘要

    ***********招标公司受业主*******委托,于2024年05月11日在招标网发布化合物半导体微纳结构工艺加工(清采比选20240170号)采购公告。
    各有关单位请于2024.05.14前与公告中联系人联系,及时参与投标等相关工作,以免错失商业机会。

    部分信息内容如下:(查看详细信息请登录
采购项目名称 化合物半导体微纳结构工艺加工 采购项目编号 ************* 公告开始时间 ****-**-** **:**:** 公告截止时间 ****-**-** **:**:** 对外联系人 本项目不接受咨询 咨询通道已关闭 联系电话 本项目不接受咨询 咨询通道已关闭 签约时间要求 成交后*个工作日内 (如不按时签订合同,采购单位有权取消或变更采购结果) 交货时间要求 签订合同后**个工作日内 采购单位 **** 最高限价 ¥***,***.** 未公布 国内合同付款方式 合同签订后**%,到货后**%,验收合格后**% 交货地址 ******* 供应商特殊资质要求

采购清单* 物资名称 采购数量 计量单位 化合物半导体微纳结构工艺加工 * 件 品牌 品牌* 型号 品牌* 型号 品牌* 型号 单价 ¥***,***.** 技术参数及配置要求 *、在直径*英寸外延片整片上进行周期性微纳结构加工,单个微纳结构阵列规模***×***,周期** μm。每个周期结构中包含*×*个微结构,微结构周期*.* μm,边长*.** μm,深度*** nm。在每个阵列上进行台面刻蚀,台面边长** μm,刻蚀深度*.**~*.* μm
*、具备光刻板设计和加工能力,根据用户需求进行板图设计与加工
*、半导体材料刻蚀深度偏差小于** nm,均匀性小于*%
*、阵列方块边长控制精度±*.** μm
*、制备厚度*** nm SiO*钝化膜,折射率在*.**~*.***之间,厚度均匀性小于*%
*、欧姆金属AuGe /Ni/Au ( ***/**/*** nm),一次性成膜,厚度均匀性小于*%
*、反射层金属溅射 Ti/Au (** nm/*** nm),一次性成膜,厚度均匀性小于*%
*、外圈环状电极>** μm (***~*** μm),外圈电极需保证边缘完整无缺陷,与周期性微纳结构电极共平面,且需与下接触层欧姆金属实现互联
*、单个微结构阵列器件整体区域比橙色区域两边各多出***~*** μm 质保期 **个月
****
****-**-** **:**:**
报价地址:http://sbgysfw.sysc.tsinghua.edu.cn/login.html

为保证您能够顺利投标,请在投标或购买招标文件前向招标代理机构或招标人咨询投标详细要求,有关招标的具体要求及情况以招标代理机构或招标人的解释为准。

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