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原子层沉积设备竞价公告-CB106982020003718

信息发布日期：2020.11.13 标签：陕西省招标

招标编号：	CB106982020003718
加入日期：	2020.11.13
招标业主：	西安交通大学
地区：	陕西省
内容：	基本信息：申购单号：*************** 申购主题：原子层沉积设备采购单位：**** 报价要求：国产含税发票类型：增值税专用发票币种：人民币预算：付款方式：.货到安装、调试、验收合格后，付全款。备注说明：签约时间：发布竞价结果后*天内签约合同送货时间：合同签订

招标公告正文

基本信息：

申购单号：CB106982020003718

申购主题：原子层沉积设备

采购单位：西安交通大学

报价要求：国产含税

发票类型：增值税专用发票

币种：人民币

预算：

付款方式：1.货到安装、调试、验收合格后，付全款。

备注说明：

签约时间：发布竞价结果后14天内签约合同

送货时间：合同签订后90天内送达

安装要求：免费上门安装（含材料费）

收货地址：***

申购明细：

采购内容	数量	单位	预算单价	品牌	型号	规格参数	质保及售后服务
原子层沉积设备	1	套		不限	不限	1. 工作条件： 1.1 电源电压：AC 380V±10%，50Hz，三相五线 1.2 长时间连续工作（满足7×24，即每周7天、每天24小时运行） 2. 设备基本规格： 2.1 适用于8英寸、6英寸、4英寸、3英寸、2英寸及破片加工 2.2 设备运行过程中，整机外壳温度均不高于60℃，以保证操作的安全性。 2.3 腔体系统要求： 2.3.1 真空腔材质为316L不锈钢，漏率≤5×10-10mbar·L/s，腔体表面经过电解抛光处理 2.3.2 样品台尺寸不小于φ200mm，可放样品最大高度不小于10mm 2.3.3 腔体开关方式：可通过界面操作系统自动开关腔门，配备安全互锁检测功能，确保腔门在安全状态下开关；耐腐蚀O-ring密封 2.3.4 真空腔预留等离子体接口，可在原腔体基础上加装等离子体系统，无需更换腔体即可实现PEALD、Thermal-ALD双模式切换 2.4 管路系统要求： 2.4.1 至少配备3路前驱体源管路，3路可加热源，适用于需要加热的固态或液态前驱体源。每路源至少配备1套源瓶系统和2个国外进口阀门。源瓶系统配备1个国外进口高温手动阀、经过电解抛光处理且体积不小于250mL的不锈钢源瓶；阀门配备安全互锁检测功能，在真空腔门打开时处于强制关闭状态，防止前驱体暴露在空气中。 2.4.2 至少配备2路反应物管路，包括NH3、H2、H2O，每一路反应物管路配备1个国外进口阀门和一个计量调压阀。 2.4.3 前驱体管路配有载气（N2或Ar），载气管路前端需配备计量调压阀、进口气动阀等 2.4.4 吹扫气路采用高精度进口质量流量控制器（MFC）进行流量控制，MFC控制精度：在2%-30%量程范围内精度为±0.3%，30%-100%量程范围内精度为±1%，可重复精度为±0.2%，漏率：< 1 x 10-10 Pa·m3/s(He) 2.4.5 管路及接头均采用EP级电解抛光不锈钢材料，所有气体管路连接处采用金属VCR密封 2.4.6 管路排布符合工业标准，从源瓶到真空腔的所有管路需要配备加热箱，保证管路、阀门等位置受热均匀 2.5 加热系统要求： 2.5.1 样品台温度室温至400℃可控，控制精度<±1℃; 腔体四周及上下盖板具备加热保温功能，加热温度室温至150℃可控，控制精度<±1 2.5.2 加热箱及源瓶温度室温至120℃可控，控制精度：±1℃；管路热电偶响应时间<0.3秒；加热用固态继电器采用进口品牌，符合 UL、CSA、ROHS标准 2.6 真空泵采用进口双级有缝式旋片真空泵，抽速17m3/h，噪音＜55dB 2.7 真空测量：至少配备2个真空压力计，包含一个高真空压力计和一个大气真空压力计。其中高真空压力计采用进口薄膜压力规，要求高精度，长寿命，必须对腐蚀性介质具有极高的耐受性，可在工艺进行的同时进行压力监测，量程范围：005Torr ~ 10Torr，精度：±0.25%读数；响应时间：<20mS；分辨率：≤005%FS；符合CE，ROHS 规范。其中大气真空压力计采用高精度真空压力计，量程范围：1Torr ~ 760Torr。 3. 设备软硬件规格 3.1 控制系统配备工控机和进口PLC，工控机配备SSD固态硬盘，安装正版操作系统；PLC可支持2ms扫描周期 3.2 输入设备配备鼠标、键盘和触摸显示器，显示器尺寸不小于19inch，可360度自由旋转，可调视距、视角、自由悬停 3.3 界面操作系统支持历史数据、报警日志的存储和导入导出功能 3.4 界面操作系统需实时展示系统加热状态、所有阀门开关状态、腔室压力状态 3.5 界面操作系统具备配方编辑功能，可对工艺参数沉积温度、循环次数、脉冲时间等进行编辑 3.6 用户可设定设备及工艺运行时的报警参数，包括但不限于温度、压力、流量等 3.7 用户可设定设备及工艺运行时的提醒参数，包括前驱体源用量追踪及提醒功能。 3.8 界面操作系统具备用户权限管理功能，可根据用户级别设定使用权限，针对操作人员分级管理。 3.9 界面操作系统可自动完成真空获取、升温、薄膜沉积、降温等整个工艺过程，并支持多个配方交替运行，实现单一和多层薄膜材料的制备 3.10 所有管路系统配备管路清洗功能，确保ALD阀门与真空腔之间的管路没有前驱体残留 3.11 阀门配备SMC电磁阀，电磁阀响应时间<5ms，带过电压保护回路，带动作指示灯 4. 工艺验收标准 8英寸（?200mm）单晶硅片基底上沉积TiO2薄膜，在30nm的厚度范围内，薄膜的不均匀性＜2％（均匀九点）	1.按行业标准提供服务，质保期36个月。 2.禁止虚报参数，中标后不能满足规格参数者，按合同金额的20%进行赔偿。

报价地址：***

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