磁控溅射镀膜机竞价公告-CBGRMHGDL2020000507_招标网

磁控溅射镀膜机竞价公告-CBGRMHGDL2020000507

信息发布日期：2020.08.25 标签：广东省招标

招标编号：	CBGRMHGDL2020000507
加入日期：	2020.08.25
招标业主：	生物岛实验室
地区：	广东省
内容：	基本信息：申购单号：***************** 申购主题：磁控溅射镀膜机采购单位：**** 报价要求：国产含税发票类型：增值税普通发票币种：人民币预算：付款方式：货到验收合格后付款备注说明：签约时间：发布竞价结果后天内签约合同送货时间：合同签订后*天内送达安装

招标公告正文

基本信息：

申购单号：CBGRMHGDL2020000507

申购主题：磁控溅射镀膜机

采购单位：生物岛实验室

报价要求：国产含税

发票类型：增值税普通发票

币种：人民币

预算：

付款方式：货到验收合格后付款

备注说明：

签约时间：发布竞价结果后7天内签约合同

送货时间：合同签订后10天内送达

安装要求：免费上门安装（含材料费）

收货地址：***

申购明细：

采购内容	数量	单位	预算单价	品牌	型号	规格参数	质保及售后服务
磁控溅射镀膜机	1			*	*	关键技术参数需求 1. 腔体尺寸：直径450mm高420mm 2. 极限真空度：≤6.710-5Pa 3. 系统漏率：510-7Pa.l/h 4. 静态升压：系统停泵关机12h后，真空度≤5Pa 5. 抽真空时间：抽至910-4Pa，时间≤30min 6. ▲磁控靶配置：带角度调节直径85mm磁控靶2支 7. 清洗：支持偏压清洗 8. 辅助沉积：支持辅助沉积 9. 样品数量：6寸样片1片或小样品数片 10. 溅射不均匀性：≤±3%（直径3寸范围内），≤±5%（直径6寸范围内） 11. 样品加热：最高800℃，温度均匀性±1%（灯光辐照，样品镂空） 12. 腔体侧壁烘烤加热：有 13. 工艺气体：Ar，O2 14. ▲电源：射频源：600W，AE，自动匹配直流源：1000W 15. 压力控制：自动 16. 载片(Wafers)：直径小于100mm的各种基片(up to 100 mm wafers) 17. 气体(Gas lines)：Ar、O2、N2 18. 靶源(Magnetron sputtering sources)：四个2吋标准磁控靶，功率200W (Four 2 - inch standard strength，power 200W) 19. 样品台转速及温度范围(Rotating speed of and temperature range of the sample stage)：最高转速30 rmp，室温至500 ℃ (Up to 30 rmp, and room temperature up to 500 ℃) 20. 薄膜不均匀度(Nonuniformity)：＜ 5% 二、特殊配件或耗材需求 ▲1.水冷工件盘1个（可与加热工件盘互换）。 ▲2.阳极层离子源1支。 ▲3.进口全量程真空规1套。 ▲4.循环水机1台。带▲的参数为重要技术参数，请优先配置，如果不能配置，请说明原因。	按行业标准提供服务

报价地址：***

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